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第三章半導體產業及個案公司探討

基本上化學氣相沉積製程包括氣體傳輸、熱能傳遞及反應進行三分面，具. 體而言，氣體被導入反應器內，藉由擴散方式到達晶片表面，而由晶片表面提供. 反應所需的能量，反應 ...

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