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半導體四大製程介紹
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半導體製程設備技術 - 第 205 頁 - Google 圖書結果
理由在於高壓製程環境下的電容偶合電漿僅有3∼ 5%傳遞給電子並激發游離電漿濃度。所以想藉由大功率RF Power來增進電 漿密度並無法得到更高效能,高能量輸入造成過大的偏 ...
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