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化學氣相沉積技術 - 台灣Word

氮化硅□ 多晶硅□ 耐火金屬與這類金屬之其硅化物可作為半導體組件絕緣體的二氧化硅薄膜與電漿氮化物介電層（plasmas nitride dielectrics）是目前CVD技術最廣泛的應用。這 ...

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