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化學氣相沉積之噴氣頭性能模擬分析__臺灣博碩士論文知識加值 ...

低壓化學氣相沉積(Low Pressure Chemical Vapor Deposition, LPCVD)是近年來在半導體製程上重要的技術之一，製程的研發過程中，以數值模擬方法是最經濟且最有效率的 ...

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