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化學氣相沉積 優點
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https://books.google.com.tw/books?id=oGFclNTfs4wC&pg=PA202&lpg=PA202&dq=%E5%8C%96%E5%AD%B8%E6%B0%A3%E7%9B%B8%E6%B2%89%E7%A9%8D+%E5%84%AA%E9%BB%9E&source=bl&ots=_-1y7Yfhqi&sig=ACfU3U0y3B7uqfsRjMzWlr3yzl271_XNpA&hl=zh-TW&sa=X&ved=2ahUKEwijq9W9otT3AhXHj4kEHWYbB_YQ6AF6BQi9AhAD
深次微米矽製程技術 - 第 202 頁 - Google 圖書結果
發展金屬化學氣相沉積的目的,主要在於在填充的孔洞日益縮小後,利用傳統的物理氣相沉積已經遇到 ... 金屬 CVD 的前驅物( precursor )分無機和有機兩大類,各有優缺點。
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