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化學氣相沉積 優點
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具工業化高品質大面積石墨烯合成技術 - 未來科技館
化學氣相沉積 法(Chemical Vapor Deposition, CVD)於過渡金屬基板上成長石墨烯薄膜的為目前的主流方法,具有大面積及高均勻性的優點,相當具有工業化的潛力。
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