化學氣相沉積 與物理氣相沉積(PVD)比較:. 優點:. 1. 裝置簡單。 2. 比起熱蒸鍍,CVD 則在沉積物的熔點下製備。 3. 反應材料容易取得。 4. 可用於複雜器件表面鍍膜。
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