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化學氣相沉積設備
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電漿輔助化學氣相沉積 - 大永真空設備
電漿增強化學氣相沉積(PECVD)技術是材料表面改質和薄膜沉積的基本方法之一,利用電漿讓有機單體(monomer)在真空腔體中產生裂解與聚合反應,形成一結構緻密的保護層。
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