你即將離開本站

並前往https://ppfocus.com/0/sc2de0901.html

【Fluent實例】化學氣相沉積模擬 - 人人焦點

工程上常採用化學氣相沉積方法（chemical vapor deposition，CVD）生產半導體砷化鎵GaAs，其反應裝置示意圖如下圖所示。 工藝氣體三甲基鎵 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「化學氣相沉積設備」的人也找了：

  1. 化學氣相沉積半導體
    2.
  2. 物理氣相沉積
    3.
  3. 化學氣相沉積方式
    4.
  4. cvd薄膜
    5.
  5. 化學氣相沉積缺點
    6.
  6. Chemical vapor deposition
    7.
  7. cvd原理
    8.
  8. 化學氣相沉積法石墨烯
    9.