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矽晶太陽電池之多晶矽鈍化層技術發展現況與趨勢分析

低壓化學氣相沉積法(Low Pressure Chemical Vapor Deposition, LPCVD)是指. 系統工作壓力低於㇐大氣壓下進行化學氣相沉積的方法(如圖6所示)，㇐般將壓力控. 制在1~100 Pa下 ...

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