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化學氣相沉積缺點
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熱蒸鍍機與高溫爐管之製程與設備技術初步實務 - 管理學院
例如區域性矽氧化法即是先長成氧化層350. 埃後,再疊上氮化矽約1500 埃。沉積氮化矽要在低壓化學氣相沉積. (LP-CVD)系統完成。因此將此兩種不同的爐管 ...
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