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化學氣相沉積步驟
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半導體製造總覽
而矽晶圓的是使用涉及氣體、化學品、溶劑和紫外光的重複加工生產步驟逐層建構而成。 ... 電介質膜常用的形成方法有:使用低壓化學氣相沉積(LPCVD)、等離子體增強化學 ...
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