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Centura® Tetra™ Z 光罩蝕刻系統

The Applied Centura Tetra Z 光罩蝕刻系統提供最先進的性能，可滿足10nm 及以下 ... 該系統結合優秀的臨界線寬(CD) 性能以及高蝕刻選擇性，可採用更薄的光阻薄膜， ...

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