你即將離開本站

並前往http://homepage.ntu.edu.tw/~nlw001/handouts/semi-TK/TKchap7-1.pdf

光阻劑- 微影製程

暫時塗佈在晶圓上表面. • 經由曝光製程將設計圖案轉移其上. • 非常類似於塗佈在照相機上的光敏. 感物質. 2. 光阻劑. 負光阻. • 經曝光後變不可. 溶. • 經顯影製程，未.

確定！ 回上一頁

查詢 「光阻塗佈原理」的人也找了：

  1. 光阻塗佈機
    2.
  2. 旋轉塗佈原理
    3.
  3. 光阻塗佈製程
    4.
  4. 光阻塗佈英文
    5.
  5. 旋轉 塗 佈 光阻 液 厚度及 均勻度 實驗分析
    6.
  6. 光阻塗佈厚度決定因子
    7.
  7. 光阻 駐波效應
    8.
  8. 負 型光阻
    9.