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工學院半導體材料與製程設備學程

其目的如下：表面清洗：. 由於晶圓表面通常都含有氧化物、雜質、油脂和水分子，因此在進行光. 阻覆蓋之前，必須將它先利用化學溶劑(甲醇或丙酮) 去除雜質和油. 脂，再以氫 ...

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