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最常使用之晶圓表面清潔步驟為濕式化學法(wet chemistry)

化學式. Piranha(SPM) 硫酸/過氧化氫/DI. 水. H2SO4/H2O2/H2O ... 所產生的光阻圖形，轉印到光阻底下的材質上，用以形成整個積體電路應有的複雜架構，因此.

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