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光阻基本原理 - 技術領域---技術文壇

二成份由高分子樹脂和光酸產生劑(Photoacid Generator;PAG)組成；而三成份由高分子樹脂、 光酸產生劑和溶解抑制劑構成。 其反應基本原理為光酸產生劑在曝光區與供質子酸 ...

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