習知於浸潤微影中使用界於光阻劑及浸潤流體間之保護阻擋. 材料,以避免光阻劑成分的淋洗(leaching)與曝光工具光學材料的. 積垢,以及提供抗反射性質。該阻擋層可自添加至光阻 ...
確定! 回上一頁