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华为公布EUV光刻新专利！ - 全球半导体观察

据悉，该专利提供了一种反射镜、光刻装置及其控制方法，而这种方法便能够解决相干光因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题，在极紫外光的光刻装置基础 ...

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