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光學鍍膜製程
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先進物理鍍膜實驗室(Ⅰ) - 電漿與薄膜科技中心
第二套批次式鍍膜設備使用各兩台脈衝直流電源與射頻電源提供四支5 吋X 12吋長方形靶槍 ... 並能透過電漿放射監控裝置,回饋控制製程氣體流量,以獲得預期之薄膜品質。
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