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以廣義高斯常數使用於深紫外光學微影之成像與照明系統設計

英文 DOI： 10.6342/NTU201901098 DOI. 極紫外 ； 光刻 ； 成像光學系統 ； 非成像光學系統 ； 光學系統設計 ； EUV ； lithography ； imaging ； non-imaging ...

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