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應用高分子手冊 - 第 27 頁 - Google 圖書結果

位移光罩( Phase Shiff Mask , PSM ) ,可以使 248nm 達到 0.13pm 的需求, ... 劑、 EUV 光阻劑、 E - Beam 光阻劑和 x - ray 光阻劑等就成為下世代光阻劑發展的趨勢。

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