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光刻機曝光機
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華為強勢挖角5nm光刻機兩年內量產?細思恐極
另外需要指出的是,上海微電子研發中的28nm解析度的光刻機可以用於14nm晶片的生產,多次曝光情況下,甚至可以生產12nm的晶片。既然兩年內,上海微電子的 ...
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