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光刻機曝光機
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[10A302]半導體光刻機光學(Optics of Lithography)
光刻機 光學半導體微影製程是半導體產業的核心技術,其基本組成為:曝光光源、照明系統、光罩、投影鏡頭系統、晶圓載台對準等子系統。 修課條件:. 從事相關產業人員。
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