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光刻機曝光機
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上海微電子年底前推出28nm光刻機?很殘酷_快科技
對於半導體制造產線來說,光刻機是晶片製造最為核心的關鍵裝置之一。 ... 於28nm晶片製造的光刻機,但準確說法應該是193nm ArF浸潤式光刻機,多次曝光 ...
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