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光刻機曝光機
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光刻機技術到底是誰發明的? - 資訊咖
2017年,ASML EUV光刻設備採用13nmEUV作為光源,超短波長使7nm以下特徵尺寸曝光得以實現。 結語:. 光刻技術是促進集成電路及相關產業發展的關鍵技術。10年前 ...
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