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光刻機曝光機
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ABM. Inc. Mask Aligner 光刻机
光学系统 曝光时间调解器:0.1至999.9秒(可调节精度0.1s); 365-400nm光强传感及电源供应控制电路及反馈闭环; 声控功率警报装置可防止系统功率超过设定指标;
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