2022-12-16. 韩国媒体报导,一家韩国公司开发出一种新材料,有望显著提高荷兰半导体设备企业ASML的极紫外光微影曝光设备(EUV) 的良率... 半导体设备 EUV光刻机 光罩厂.
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