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艾司摩爾CEO：中國獨立開發頂尖光刻機至少需要10年- 兩岸

全球半導體微影設備製造大廠、荷蘭光刻機巨頭艾司摩爾（ASML）近日表示，對中國出口設備仍未獲得荷蘭政府許可。該公司CEO彼得．溫尼克（Peter Wennink）說 ...

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