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側刻好處
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如何提升5nm芯片良率?-面包板社区 - 电子工程专辑
EUV光刻技术是在7nm晶圆厂生产线中引入的,用于最关键的掩模层。 ... “现在有如此多的堆叠,这带来了许多好处,但与此同时,凸点的数量正爆炸式增长。
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