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以磁控濺鍍法於低真空下製備Al薄膜及其特性研究

本研究利用磁控濺鍍法，承襲本實驗室低真空環保製程，於低真空(1.3×10-2 Pa，抽氣時間約三分鐘) 下，成功製備出性質與高真空(6.6×10-4 Pa，抽氣時間至少三十分鐘) 下所 ...

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