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真空電鍍與低溫二氧化矽鍍膜 - 冠晶光電股份有限公司

製程原理. 低溫真空二氧化矽爐內面塗是藉由電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)，對矽烷類單體(monomer)進行解離與聚合，形成緻密的籠狀(cage-like)二氧化矽薄膜，以奈米級的 ...

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