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半導體產業營業秘密與智慧財產權之理論與實務

舉例說明,若圖 3.15(a)中所示欲蝕刻的薄膜層為二氧化矽,則我們常選用稀釋的氫氟酸(HF)當作蝕刻液,因為氫氟酸不會與光阻或矽起化學反應,但很容易與二氧化矽起化學反應, ...

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