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氧化矽半導體 - Paula

絕緣層披覆–氧化( Oxidation ) 處理晶元的最先步驟，通常為在矽晶上成長二氧化矽絕緣層。二氧化矽可由矽晶在氧化氣氛中加熱生成。依需要氧化氣氛可為氧氣或水蒸氣。而加熱 ...

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