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濕蝕刻設備半導體產業GPM 均豪精密

屬於等向性的蝕刻技術可以分為「濕蝕刻Wet Etching」及「乾蝕刻Dry Etching」. 兩類。在濕蝕刻中是使用化學溶液，經由化學反應以達到蝕刻的目的；而乾蝕刻.

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