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乾蝕刻濕蝕刻
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Etch - 蝕刻
「乾式」(電漿) 蝕刻主要用於形成電路的製程步驟;「濕式」蝕刻(使用化學槽浴) 則用於清潔晶圓表面。應材也提供創新式的「乾式」移除製程,不需使用電漿,即可選擇性地移除 ...
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「乾蝕刻濕蝕刻」
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