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乾式蝕刻電漿

乾式蝕刻(Dry etch)，是以氣體電漿來蝕刻樣品的表面原子或分子。影響乾蝕刻的因素包括：(1)蝕刻系統的型態；(2)乾蝕刻的參數；(3)前製程相關參數，如光阻、待蝕刻薄膜 ...

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