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變壓耦合式電漿製程設備之蝕刻率批片控制

除了非等向性蝕刻與選擇性之外，還需考慮蝕刻速率(Etching rate) 及均勻性(Uniformity)。乾蝕刻蝕刻速率越快，表示產量越大，蝕刻均勻性越高，代表晶圓品質的控制越完善， ...

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