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電漿蝕刻製程參數對聚醯亞胺製程之蝕刻設備特性

[8] Michael Quirk,Julian Serda,2000, Semiconductor Manufacturing Technology, McGraw-Hill, New York. 連結：; [10] 龍柏華，何孝恆，2004，”乾蝕刻製程暨機台原理簡介 ...

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