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電漿製程技術國立中興大學- 電漿蝕刻原理 - G92Pek

干法刻蝕是亞微米尺寸下刻蝕器件的最主要方法，廣泛應用於半導體或面板前段製程。 Dry Etch 的分類及工藝的基本原理蝕刻技術中的術語1.各向同性與各向異性蝕刻不同的蝕刻 ...

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