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乾蝕刻原理
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反應式離子蝕刻機- 電漿蝕刻原理 - Qovu
干法刻蝕是亞微米尺寸下刻蝕器件的最主要方法,廣泛應用於半導體或面板前段製程。 Dry Etch 的分類及工藝的基本原理蝕刻技術中的術語1.各向同性與各向異性蝕刻不同的蝕刻 ...
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