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乾蝕刻原理
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反應離子刻蝕維基百科,自由的百科全書- 電漿蝕刻原理 - Iqoqu
兩類。在濕蝕刻中是使用化學溶液,經由化學反應以達到蝕刻的目的;而乾蝕刻通常是種電漿蝕刻Plasma Etching。電漿蝕刻中的蝕刻的作用,可能是電漿中離子撞擊晶片表面的 ...
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