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乾蝕刻原理
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半導體乾蝕刻技術 - coachprod.fr
在濕蝕刻中是使用化學溶液,經由化學反應以達到蝕刻的目的,而乾蝕刻通常是一種電漿蝕刻技術可以分為濕蝕刻(wet etching)及乾蝕刻(dry etching)兩類。
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