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乾蝕刻原理
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電漿表面蝕刻Plasma Etching - 原晶半導體設備股份有限公司
電漿表面蝕刻是一種用來增加表面micro等級材料區塊的處理方式,讓物件的表面用反應氣體來進行蝕刻。 表面的材料被蝕刻掉,轉化為氣體並由真空系統 ...
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