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乾氧化濕氧化比較
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https://www.tiri.narl.org.tw/Files/Doc/Publication/InstTdy/130/01300040.pdf
光電半導體主動元件與被動元件的製程技術
術、黃光微影技術和乾濕蝕刻等技術。值得一提的 ... 也比較不受限制。在製程反應室內部的高溫與高真 ... 放過久,表面會生成氧化物,因此在進行此步驟.
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「乾氧化濕氧化比較」
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半導體氧化製程