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奈米金屬轉印技術應用於製作平面與曲面之抗反射結構
實驗步驟首先是於基板表面上轉印奈米金屬點陣列,並利用這些金屬點作為蝕刻遮罩,對基板進行乾式蝕刻製程完成次微米抗反射結構製作,利用這些結構外型 ...
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