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乾式蝕刻
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乾蝕刻設備– 蝕刻製程介紹– Primariogy
乾式蝕刻 Dry etch,是以氣體電漿來蝕刻樣品的表面原子或分子。影響乾蝕刻的因素包括1蝕刻系統的型態;2乾蝕刻的參數;3前製程相關參數,如光阻、待 ...
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「乾式蝕刻」
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