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用於灰階微影蝕刻之正型光阻劑 - 智慧製造展

... 射曝光–鹼性水溶液顯影，用於基於TMAH的顯影劑進行灰階顯影，也用於含金屬離子的顯影劑進行標準二元顯影–適用於電鍍–適用於乾式蝕刻製程，例如帶有CHF3，CF4，SF6

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