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利用矽晶片製造與整合微系統的思維與架構

限制，筆者架構出一種結合濕式非等向性化學蝕刻和乾式的深活性離子蝕刻矽基 ... 以及柱子側壁之熱氧化步驟，以使非{111}面之側壁能受到二氧化矽薄膜的保.

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