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(12)發明說明書公告本

術,乾式蝕刻法正代替濕式法成為主流。乾式蝕刻法係使. 於真空空間中產生電漿,並使微細之圖案以分子單位形成. 於物質表面上之方法。 於二氧化矽(SiO2)等半導體材料之 ...

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